Tyr ha sido establecida en 2004 año, se especializa en una amplia categoría de sputtering objetivos, la evaporación de origen material, de la película fina de material, el revestimiento de vacío película mateirals, material de tierras raras y de reactivos de química, pvd base de materiales en los metales, las aleaciones, los compuestos, y ofrecemos la vinculación de los objetivos de servicio, we gobierno al servicio de centros deinvestigación, las universidades y de alta tecnología deindustrias. Estamos usando una variedad de especializadaincluyendo los procesos de prensado en caliente, caliente/frío prensadoisostático, y la fusión de vacío, la sinterización vacío, podemos proporcionar el tipo de homogénea, fino- de grano, de alta- densidad de los materiales que se ajustan a las más estrictas de control de calidad, nuestro objetivo es siempre para poner la calidad en primer lugar. El suministro de mateial como todo tipo de elemento de la tabla periódica para ver que lo que hacemos.( sus metales, aleaciones, los óxidos y otros compuestos, sputtering objetivos, materiales de evaporación, de recubrimiento al vacío material de la película, materiales de película delgada) aplicación: cerámica, revestimiento de película delgada, fina película óptica, eléctrico de la película fina, pvd thin film, superconductores de película delgada, fina película protectora, la superficie de la película fina,ic de recubrimiento, capa evaporación al vacío, la capa de color, la comunicación óptica, esmaltado, laindustria de la exhibición de la evaporación aquellos material para la evaporación térmica, revestimiento óptico se puede proporcionar como piezas, gránulos, trozos, pellets, disparos, las hojas de, láminas, las barras, los cables, crisoles, barco, las babosas. La pureza: 99.5% a 99.999% hay tienen las clases de la evaporación tales como de metal puro, las aleaciones, en los compuestos de tyr, el detalle de la siguiente manera: metales puros delgada de material de la película: aluminio( de al), antimonio( sb), boro( b), bismuto( bi), cerio( ce), cobalto( co), grafito( c), cromo( cr), cobre( cu), disprosio( dy), erbium( er), de oro( au), gadolinio( gd), germanio( ge), holmio( ho), hafnio( hf), elindio( en),iridium(ir), hierro( fe), lantano( angeles), lutecio( lu), de magnesio( mg), manganeso( mn), molibdeno( mo), niobio( nb), de neodimio( nd), níquel( ni), platino( pt), el paladio( pd), renio( re), rutenio( ru), plata( ag), escandio( sc), de silicio(is), samario( sm), tantalio( ta), terbio( tb), titanio( ti), tulio( tm), estaño( sn), tungsteno( w), vanadio( v),iterbio( yb),itrio( de y), circonio( zr). Aleaciones tipo de película fina de material: de al/cu, de al/is, de al/is/cu, de al/mo, de al/ge, la unión africana/sn, la unión africana/zn, ag/de al, ag/au, ag/bi, ag/cu, ag/ti, ag/zno, ag/en, cu/en, ge/sb/te, en/sb, mg/ag, mg/de y, mn/zno, mn/ir, mo/nb, mo/is, nb/ta,/nb ti, pd/ni, ta/ir, ta/nb, ta/de al, ta/b, ta/mo, ta/w, ta/is, ti/ni, w/is, w/b, w/re. óxido tipo de película fina de material: al2o 3, ceo 2, cr2o 3, cuo, cu2o, cualo 2, coo, gd2o 3, geo 2, ga2o 3, hfo 2, fe3o 4, fe2o 3, la2o 3, laalo 3, la2o3-sm2o 3, linbo 3, mgo, nb2ox, nio, v2o 5, sio, sio 2, tio, ti2o 3, tio 2, ti3o 5, ta2o 5, wo 3, y2o 3, yb2o 3, zro 2, zro2-y2o 3, ysz, ybco. Fluoruro tipo de película fina de material: yf 3, ybf 3, mgf 2, lif, la baf 3, cef 3, laf 3, dyf3 sulfuro tipo de película fina de material: zns, cds, pbs otro tipo de material: cdse, cr-sio, tungsteno plateado cromo barra,inse,in2se 3,in2o3/sno2=95/5, snas, gasb,insb,in2se 3, pbse, as2te 3, cdte, sb2te 3, bi2te 3, pbse fuente de evaporación: crisoles: ta, nb, w, mo, al2o 3, zro 2, de grafito, tib 2, zr, barco sio2: w, mo